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這就是更多人愿意使用等離子清洗機(jī)清洗電子設(shè)備的根本原因

更新時間:2019-12-10點擊次數(shù):1383
   隨著越來越多的電子設(shè)備出現(xiàn)在我們的生活當(dāng)中,電子設(shè)備清洗也就成了熱門的話題!在電子設(shè)備清洗大致可分為兩種:濕法清洗和干法清洗。
  濕法清洗已經(jīng)在電子工業(yè)生產(chǎn)中廣泛應(yīng)用,但是濕法清洗過程中所產(chǎn)生的污染和有毒化學(xué)劑對環(huán)境的危害成為令人困擾的難題。相對而言,干法清洗在這方面有很大的優(yōu)勢,其中特別以等離子清洗技術(shù)為例已逐步在半導(dǎo)體、電子組裝、精密機(jī)械、醫(yī)療等行業(yè)廣泛應(yīng)用。因此,我們有必要了解下等離子清洗技術(shù)與一般濕法清洗的不同之處。
  濕法清洗主要是依靠物理和化學(xué)溶劑的作用,如在化學(xué)性劑需吸附、浸透、溶解、散離作用下輔以超聲波、噴淋、旋轉(zhuǎn)、沸騰、蒸汽搖動等物理作用下去污。
  與濕法清洗相比,等離子清洗機(jī)的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法中看,可能等離子體清洗也是所有清洗方法中較為*的剝離式清洗。

等離子清洗機(jī)

  用等離子清洗機(jī)和濕法清洗比較:
  1、濕法化學(xué)清洗時間和化學(xué)溶劑對工藝靈敏,等離子清洗工藝過程更容易控制。
  2、去除油污及氧化物等工藝時,濕法化學(xué)清洗需要進(jìn)一步去除及處理或需要多次清洗,而等離子清洗只要一次,基本無殘留物。
  3、濕法化學(xué)清洗后大量的廢物還要需要進(jìn)一步處理,這樣也耗費更多的時間和人力,但是等離子清洗反應(yīng)副產(chǎn)物為氣體,在通過真空系統(tǒng)及中和器可直接排放到大氣中
  4、關(guān)于毒性:濕法化學(xué)清洗溶劑和酸有相當(dāng)高的毒性,而等離子清洗反應(yīng)所需氣體大多無毒,工作人員使用等離子清洗很久也不會對身體產(chǎn)生危害。
  等離子清洗技術(shù)較常規(guī)化學(xué)清洗具有若干優(yōu)勢,等離子由于使用電能催化化學(xué)反應(yīng)而不是熱能,因此提供了一個低溫環(huán)境。等離子排除了由濕式化學(xué)清洗帶來的危險,并且與其他清洗相比清洗后無廢液。如今等離子清洗技術(shù)應(yīng)用的領(lǐng)域越來越廣泛,發(fā)展前景十分廣闊,同時為各行各業(yè)解決了許多難題。

 

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