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用了這么多年的等離子清洗機(jī),對等離子清洗技術(shù)都還沒了解透徹

更新時間:2019-12-06點(diǎn)擊次數(shù):1577
   用了這么多年的等離子清洗機(jī),對等離子清洗技術(shù)都還沒了解透徹
  等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態(tài)存在,如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài),又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。
  等離子清洗技術(shù)起源于20世紀(jì)初,隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,其應(yīng)用越來越廣,等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。

等離子清洗機(jī)

  等離子體清洗技術(shù)的大特點(diǎn)是不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
  隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,各種器件越做越精密,那么對于清洗的要求也越來越高,特別是在芯片制造、成像及顯示等領(lǐng)域,如手機(jī)攝像頭、晶圓、電容屏、柔性屏等,對于表面微污染物的要求極其高,甚至表面不能殘留納米級的顆粒。由于污染物體積小、成分復(fù)雜且通常表面要求不能存在有機(jī)殘留,這時等離子清洗機(jī)的作用就更能夠體現(xiàn)出來。等離子清洗機(jī)所產(chǎn)生的等離子體能夠?qū)⒂袡C(jī)污染物分子鏈打斷,使分子結(jié)構(gòu)中的元素與基體脫離,脫離后的元素與等離子體中的自由基發(fā)生化學(xué)反應(yīng),進(jìn)行分子重組,形成無害氣體排出,以達(dá)到表面清潔的目的。
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