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今天我給大家講講等離子清洗機(jī)在手機(jī)行業(yè)中的應(yīng)用:1、手機(jī)蓋板:手機(jī)蓋板生產(chǎn)中,手機(jī)蓋板需要進(jìn)行鍍膜,鍍膜前為了鍍膜附著力高,需要進(jìn)行等離子清洗,從而明顯提高蓋板表面活性,鍍膜壽命明顯提高。2、顯示屏/AMOLED屏:顯示屏/AMOLED屏在貼合,粘接工藝前需要進(jìn)行表面清潔改性。以去除玻璃上的一些金屬顆?;蛘咂渌廴疚?,在對液晶玻璃進(jìn)行的等離子清洗中,使用的活化氣體是氧的等離子體,它能無污染高效去除油性污垢和有機(jī)污染物粒子。3、ITO玻璃/手機(jī)玻璃后蓋:制造清潔工藝中,舊工藝需...
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等離子清洗機(jī)在清洗物體前首先要對清洗的物體和污物進(jìn)行分析,然后進(jìn)行氣體的選配。依據(jù)等離子的作用原理可將選配氣體分為兩類,一類是氫氣和氧氣等反應(yīng)性氣體,其中氫氣主要應(yīng)用于清洗金屬表面的氧化物,發(fā)生還原反應(yīng)。清洗機(jī)通氧氣主要應(yīng)用于清洗物體表面的有機(jī)物,發(fā)生氧化反應(yīng)。另一類是等離子清洗機(jī)通氬氣、氦氣和氮氣等非反應(yīng)性氣體,氮等離子處理能提高材料的硬度和耐磨性。氬氣和氦氣性質(zhì)穩(wěn)定,并且放電電壓低(氬原子的電離能E為15.57eV)易形成亞穩(wěn)態(tài)的原子。一方面等離子清洗機(jī)利用其高能粒子的物...
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抽真空速度是決定一臺真空等離子清洗機(jī)的工作效率的重要因素之一,抽真空速度的快慢主要是取決于真空泵。當(dāng)所需處理產(chǎn)品的尺寸較大,必須使用大腔體(80L以上)的真空等離子清洗機(jī)時,如果只使用一臺真空泵的話,抽真空速度會比較慢,抽真空所需的時間會很長。因此,大腔體的真空等離子清洗機(jī)我們通常會配備真空泵組來提升抽真空的速度。今天我們就來介紹一下等離子清洗機(jī)上所用到的幾類真空泵組以及在選擇真空泵組時的注意點。真空泵組是將2臺或2臺以上的真空泵組合在一起,形成一個串聯(lián)的結(jié)構(gòu),能夠大大加快抽...
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說到等離子清洗技術(shù)目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于很多領(lǐng)域,比如光學(xué)電子或者生物醫(yī)療等很多行業(yè)都會用到等離子清洗設(shè)備,而等離子清洗設(shè)備的工作原理是利用等離子體來對物體表面進(jìn)行清洗,清洗效果是常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的,而且隨著等離子清洗技術(shù)的不斷革新,現(xiàn)在使用等離子清洗設(shè)備的地方越來越多,所以今天就來說說等離子清洗機(jī)使用時的注意事項。1、說到等離子清洗設(shè)備還可以根據(jù)具體功能細(xì)分為真空等離子清洗機(jī)或者卷對卷等離子清洗設(shè)備等很多種,因此在使用等離子清洗設(shè)備之前應(yīng)該詳細(xì)閱讀配套的使用說明書,而且很多...
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等離子清洗機(jī)(plasmacleaner)也叫等離子清潔機(jī),或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),通過對氣體施加足夠的能量,使之離化成等離子狀態(tài)。依靠等離子體中活性離子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子清洗機(jī)外接一臺真空泵,工作時清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔的沖刷被清洗物表面,短時間的清洗可以使有機(jī)污染物被*的清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,清洗程度能達(dá)到分子級。有效避免了因液體清洗介質(zhì)對清洗物帶來的二次污染。工作原理:等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),通過化...
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等離子清洗機(jī)是一種全新的高科技技術(shù),利用等離子來達(dá)到傳統(tǒng)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是一種物質(zhì)狀態(tài),也稱為第四種物質(zhì)狀態(tài)。向氣體施加足夠的能量使其電離,使其變成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括離子、電子、活性基團(tuán)、受激核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機(jī)就是利用這些活性成分的特性來處理樣品表面,從而達(dá)到清洗等目的。等離子清洗機(jī)中產(chǎn)生等離子體的裝置是將兩個電極放置在一個密封的容器中形成電場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體變得越來越薄,分子間距和分子或離子的自由運...
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等離子清洗機(jī)是一種依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”,來去除物體表面污漬的一種清洗設(shè)備。它屬于電子工業(yè)清洗中的干法清洗,過程中需要真空泵制造一定的真低壓條件滿足清洗所需,今天小編來給大家說說這過程是怎么一回事。等離子清洗所需要的等離子體主要通過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生,像低壓氣體輝光等離子體。簡單地如開頭說,等離子清洗需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行,準(zhǔn)確的說是低壓狀態(tài)下,如果*真空的話也就意味著沒有等離子體,等離子清洗也就不存在了(一般需保持在100Pa左右),...
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隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展,對工藝技術(shù)的要求越來越高,特別是對半導(dǎo)體圓片的表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán),其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質(zhì)沾污會嚴(yán)重影響器件的質(zhì)量和成品率,在目前的集成電路生產(chǎn)中,由于圓片表面沾污問題,仍有50%以上的材料被損失掉。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,幾乎每道工序中都需要進(jìn)行清洗,圓片清洗質(zhì)量的好壞對器件性能有嚴(yán)重的影響。正是由于圓片清洗是半導(dǎo)體制造工藝中重要、頻繁的工步,而且其工藝質(zhì)量將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性,所以國內(nèi)外各大公司、研究機(jī)構(gòu)等對清洗工藝的...
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